化學(xué)拋光是金屬表面通過(guò)有規(guī)則溶解達(dá)到光亮平滑,。在化學(xué)拋 光過(guò)程中，鋼鐵零件表面不斷形成鈍化氧化膜和氧化膜不斷溶解,，且前者要強(qiáng)于后者。由于零件表面微觀的不一致性,，表面微觀凸起部位優(yōu)先溶解,，且溶解速率大于凹下部位的溶解速率;而且膜的溶解和膜的形成始終同時(shí)進(jìn)行，只是其速率有差異,，結(jié)果使鋼鐵零件表面粗糙度得以整平,，從而獲得平滑光亮的表面。拋光可以填充表面毛孔,、劃痕以及其它表面缺陷,，從而提高疲勞阻力、腐蝕阻力,。

電化學(xué)拋光原理

電化學(xué)拋光也稱(chēng)電解拋光,。電解拋光是以被拋工件為陽(yáng)極，不溶性金屬為陰極,，兩極同時(shí)浸入到電解槽中,，通以直流電而產(chǎn)生有選擇性的陽(yáng)極溶解，從而使工件表面光亮度增大,，達(dá)到鏡面效果,。

化學(xué)(或電化學(xué))除油→熱水洗→流動(dòng)水洗→除銹(10%硫酸)→流動(dòng)水洗→化學(xué)拋光→流動(dòng)水洗→中和→流動(dòng)水洗→轉(zhuǎn)入下道表面處理工序

工作環(huán)境:傳統(tǒng)拋光工藝工作環(huán)境惡劣,，拋光過(guò)程中產(chǎn)生沙粒，鐵屑,，粉塵等,，嚴(yán)重污染環(huán)境;

.加工效率:人工拋光;豪克能工藝屬于以車(chē)代磨，線速度可達(dá)50-80 m/min,進(jìn)給量可達(dá)0.2-0.5mm/r,相當(dāng)于半精車(chē)的效率,。

鋪料消耗:拋光需要消耗拋光輪,、磨料、砂帶等輔料;

適應(yīng)性:拋光可以加工平面等簡(jiǎn)單的型面,，對(duì)于曲面無(wú)法加工,。如果加工R弧，曲面等復(fù)雜型面,，可采用豪克能拋光工藝,。

化學(xué)拋光后處理

鋼鐵零件化學(xué)拋光，可以作為防護(hù)裝飾性電鍍的前處理工序,，也可以作為化學(xué)成膜如磷化發(fā)蘭的前處理工序,。如不進(jìn)行電鍍或化學(xué)成膜，而直接應(yīng)用,，可噴涂氨基清漆或丙烯酸清漆,，烘干后有較好的防護(hù)裝飾效果。若噴漆前浸防銹鈍化水劑溶液,，抗蝕防護(hù)性將會(huì)進(jìn)一步提高,。

工具:拋光機(jī)、羊毛盤(pán),、海綿盤(pán),、超細(xì)纖維布、遮蔽膜,、遮蔽膠帶,。

材料:砂紙、拋光粗蠟,，鏡面蠟

拋光作用:去除油漆表面氧化層,、淺層的劃痕、氧化造成的漆面失光等影響漆面外觀的問(wèn)題,。

拋光用力原則:初始拋光時(shí)使用中等偏上壓力,使蠟有較好的切削力,后續(xù)收光可放松壓力;拋光面積以一臂距 離為準(zhǔn),，拋光完畢后及時(shí)擦除殘余蠟斑。

研磨,、拋光,、還原

各環(huán)節(jié)具體含義及質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):

1、 研磨:通過(guò)表面預(yù)處理清除漆面上的污物，消除嚴(yán)重氧化,、細(xì)微劃痕及表面缺陷,，工藝大多采用水砂紙去除表面瑕疵，一般使用3M 1500-2500皇牌水砂紙,。

隨著人工成本的提高,，水磨砂紙研磨效率不高，使用后砂紙痕較重的問(wèn)題開(kāi)始凸顯,，一些主流高端站開(kāi)始采用3M 金字塔砂紙,，P1500和P3000砂紙，使用干磨機(jī)半濕磨的方式進(jìn)行研磨,，無(wú)砂紙痕的殘留,，機(jī)械化操作，可極大的提高拋光效率,。具體步驟如下:

a, 缺陷去除,。漆面噴灑少量水，使用P1500金字塔砂紙配合干磨機(jī)整體上下左右各一遍,，漆面呈亞光狀態(tài);打磨后,，使用橡膠刮水板刮除表面的白沫，觀察漆面,，找出突顯的缺陷,，再在砂碟上噴灑少量水，去除缺陷,。

b, 漆面過(guò)細(xì),。使用干磨機(jī)配合P3000金字塔砂碟和干磨軟墊過(guò)細(xì)打磨過(guò)的漆面，在砂碟和漆面上噴灑一定量的水,，以較快的移動(dòng)速度,，按上下左右順序各兩道打磨整個(gè)漆面。打磨后,，使用橡膠刮水板刮除表面水和白沫。

質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):漆面上無(wú)氧化層,、劃痕等缺陷

2,、拋光:拋光是研磨后進(jìn)一步平整漆面。除去研磨殘余條紋,，拋光劑使漆面光澤度自然呈現(xiàn),。

2.1 粗蠟拋光:砂紙研磨后進(jìn)一步去除表面砂紙痕，恢復(fù)漆面平整度和初始光澤,。

將蠟均勻涂抹在一定漆面區(qū)域內(nèi)(單次拋光面積在一臂展長(zhǎng)寬范圍內(nèi)為宜)拋光機(jī)轉(zhuǎn)速控制在1200-2000轉(zhuǎn)之間,。初期以中等偏上的壓力壓住拋光盤(pán)均速拋光漆面，觀察漆面,，待砂紙痕明顯拋除后放松壓力將蠟痕拋開(kāi),，回復(fù)漆面一定的光澤,。拋光后應(yīng)使用超細(xì)纖維布擦拭干凈漆面殘留的粗蠟和粉塵。

質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):去除砂紙?jiān)谄崦嫔显斐傻纳凹埡?，漆面呈現(xiàn)處部分光澤,。

2.2 鏡面拋光:去除粗蠟拋光殘留的圈紋，恢復(fù)車(chē)漆的原有光澤,。

質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):漆面無(wú)明顯圈紋,，出現(xiàn)鏡面效果，光澤度比拋光前得到有效改善,。

3,、還原:找回車(chē)漆的本來(lái)面目，恢復(fù)新車(chē)般的狀態(tài),。

質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):光澤度明顯比拋光前得到改善,，倒影清晰可見(jiàn)。

為了確定使用研磨劑的種類(lèi),，需對(duì)漆面問(wèn)題進(jìn)行判斷,。在不明顯處的小塊面積使用研磨劑。研磨劑優(yōu)先選用輕度研磨劑,，如果漆面缺陷較嚴(yán)重,，考慮選用中度或重度研磨劑。

1,、 拋光時(shí)必須堅(jiān)持"寧可慢,，不可快，寧輕,，勿重"的原 則,，避免拋露底漆。

2,、 把電線背起來(lái),，以免傷人、傷機(jī),、纏線,，嚴(yán)禁電線接觸。

3,、 拋光蠟可先倒在漆面上均勻分散,，防止漆面飛濺。

4,、 漆面拋光前建議先用洗車(chē)泥擦拭,，去除油漆表面附著的表層顆粒和污染物。

5、 拋前機(jī)蓋時(shí),，用大毛巾或者是遮蔽膜蓋住前擋玻璃,，避免拋光蠟沾在玻璃密封條與雨刮器上難以擦除。

6,、 拋光蠟均勻涂在羊毛盤(pán)或海綿盤(pán)上,，防止飛濺、浪費(fèi)材料,。

7,、 使用完畢后正確放置機(jī)器，兩手柄支地,，毛輪朝上,。

CMP，即Chemical Mechanical Polishing,，化學(xué)機(jī)械拋光,。CMP技術(shù)所采用的設(shè)備及消耗品包括:拋光機(jī)、拋光漿料,、拋光墊,、后CMP清洗設(shè)備、拋光終點(diǎn)檢測(cè)及工藝控制設(shè)備,、廢物處理和檢測(cè)設(shè)備等,。

CMP技術(shù)的概念是1965年由Monsanto首次提出。該技術(shù)最初是用于獲取高質(zhì)量的玻璃表面,，如軍用望遠(yuǎn)鏡等,。1988年IBM開(kāi)始將CMP技術(shù)運(yùn)用于4MDRAM 的制造中，而自從1991年IBM將CMP成功應(yīng)用到64MDRAM 的生產(chǎn)中以后,，CMP技術(shù)在世界各地迅速發(fā)展起來(lái),。區(qū)別于傳統(tǒng)的純機(jī)械或純化學(xué)的拋光方法，CMP通過(guò)化學(xué)的和機(jī)械的綜合作用,，從而避免了由單純機(jī)械拋光造成的表面損傷和由單純化學(xué)拋光易造成的拋光速度慢,、表面平整度和拋光一致性差等缺點(diǎn)。它利用了磨損中的"軟磨硬"原理,，即用較軟的材料來(lái)進(jìn)行拋光以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的表面拋光,。

CMP拋光液是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品,，廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光。

1. 機(jī)械拋光 機(jī)械拋光是靠切削,、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,，以手工操作為主,，特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面，可使用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔助工具,，表面質(zhì)量要求高的可采用超精研拋的方法,。超精研拋是采用特制的磨具，在含有磨料的研拋液中,，緊壓在工件被加工表面上,，作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。利用該技術(shù)可以達(dá)到Ra0.008μm的表面粗糙度,，是各種拋光方法中最高的,。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。

2. 化學(xué)拋光 化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,，從而得到平滑面,。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備，可以拋光形狀復(fù)雜的工件,，可以同時(shí)拋光很多工件,，效率高?；瘜W(xué)拋光的核心問(wèn)題是拋光液的配制,。化學(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm,。

3. 電解拋光 電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,，即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑,。與化學(xué)拋光相比,，可以消除陰極反應(yīng)的影響，效果較好,。電化學(xué)拋光過(guò)程分為兩步: (1) 宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散,，材料表面幾何粗糙下降，Ra>1μm,。 (2) 微光平整 陽(yáng)極極化,，表面光亮度提高，Ra<1μm,。

4. 超聲波拋光 將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場(chǎng)中,，依靠超聲波的振蕩作用，使磨料在工件表面磨削拋光,。超聲波加工宏觀力小,，不會(huì)引起工件變形,，但工裝制作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學(xué)或電化學(xué)方法結(jié)合,。在溶液腐蝕,、電解的基礎(chǔ)上，再施加超聲波振動(dòng)攪拌溶液,，使工件表面溶解產(chǎn)物脫離,，表面附近的腐蝕或電解質(zhì)均勻;超聲波在液體中的空化作用還能夠抑制腐蝕過(guò)程，利于表面光亮化,。

5. 流體拋光 流體拋光是依*高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的,。常用方法有:磨料噴射加工、液體噴射加工,、流體動(dòng)力研磨等,。流體動(dòng)力研磨是由液壓驅(qū)動(dòng)，使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過(guò)工件表面,。介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過(guò)性好的特殊化合物并摻上磨料制成,，磨料可采用碳化硅粉末。

6. 磁研磨拋光 磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場(chǎng)作用下形成磨料刷,，對(duì)工件磨削加工,。這種方法加工效率高，質(zhì)量好,，加工條件容易控制,，工作條件好。采用合適的磨料,，表面粗糙度可以達(dá)到Ra0.1μm,。

三種主流研磨拋光技術(shù)

1、第一種是物理研磨

這種研磨顆粒呈不規(guī)則菱形狀,，粗中細(xì)級(jí)別都有,，去氧化和劃痕效果相當(dāng)不錯(cuò)，是市面主流研磨拋光技術(shù);而帶棱角的粗研磨劑往往造成二次細(xì)微劃痕,，需要更細(xì)一級(jí)的研磨劑二次以上研磨,，程序復(fù)雜，同時(shí)不可避免的傷及漆面,。經(jīng)常使用這種研磨產(chǎn)品和技術(shù),，讓漆面像吸毒般的依賴(lài)拋光打蠟，清漆層已越拋越薄,，原車(chē)漆光亮度黯然失色

2,、第二種是物理+覆蓋研磨

剛拋完的粗中劃痕消失，有光亮效果,，但在太陽(yáng)光下有明顯細(xì)微劃痕和旋光,，原因:部份劃痕被蠟或樹(shù)脂油性成份填補(bǔ),，而非真正去除;油性過(guò)大，拋光毛球行走紋路產(chǎn)生旋光,。這種拋光方式極易在洗二三次車(chē)后劃痕重現(xiàn)，具有較強(qiáng)的欺騙性,。不知就理的店主和技師將非常煩惱!

3,、第三種是比較頂級(jí)和少見(jiàn)的研磨技術(shù)

延時(shí)破碎拋光技術(shù)，研磨劑呈玻珠圓狀,，不會(huì)造成二次研磨劃痕,，同時(shí)漆面的溫度較低;當(dāng)拋光毛球高速運(yùn)轉(zhuǎn)與研磨劑產(chǎn)生一定的溫度時(shí)，使研磨顆粒瞬間破碎,形成更細(xì)顆粒,，有效對(duì)細(xì)微深層拋光,，一步到位,越拋越亮，這種拋光技術(shù)即保證了效果,，也最大限度的杜絕了拋光對(duì)漆面的傷害(拋光必有傷害)!同時(shí)這類(lèi)研磨劑不含蠟或樹(shù)脂油性成份,，拋出的光澤是漆面深邃的原漆光澤，冷光質(zhì)感今人驚艷,。